Китайские производители чипов накопили сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя они уступают передовым EUV-системам, такое оборудование можно использовать для выпуска 7-нм логических чипов и памяти для ИИ-ускорителей. Часть установок, приобретённых для зрелых техпроцессов, может быть перепрофилирована под более передовое производство — это поддерживает полупроводниковые амбиции Китая даже в условиях экспортных ограничений.
Источник изображений: asml.com
К началу 2026 года принадлежащие китайским компаниям предприятия приобрели около 343 иммерсионных DUV-систем, говорится в докладе вашингтонского Центра технологий и государственного управления (CTS). Примерно 270 из них — ASML Twinscan NXT:1980i. По оценке авторов, только в 2024 и 2025 годах китайские предприятия закупили соответственно около 90 и 89 таких машин, потратив более $13 млрд.
Китайские производители лишены возможности покупать EUV-литографы ASML, однако поставки некоторых иммерсионных DUV-моделей продолжаются. Нидерланды ввели лицензирование экспорта NXT:2000i и более современных систем в сентябре 2023 года, а годом позже распространили требования на NXT:1970i и NXT:1980i. Но поставки последних всё ещё могут одобряться в отдельных случаях.
Авторы доклада считают это существенной лазейкой. Оборудование можно не только использовать на предприятиях, для которых оно приобреталось, но и перемещать на другие производственные линии или перепрофилировать под более тонкие техпроцессы. В частности, NXT:1980i позволяет производить 7-нм логические кристаллы и память HBM2e, необходимые для ИИ-ускорителей Huawei Ascend. Однако одного наличия литографов недостаточно: нужны остальные технологические операции, оборудование и приемлемый выход годной продукции.
Масштаб закупок заметен и в отчётности ASML. В 2024 году на Китай пришлось 41 % чистых продаж систем компании, в 2025 году — 33 %. В первом квартале 2026 года доля снизилась до 19 %, во втором — до 14 %.
В наиболее оптимистичном теоретическом сценарии CTS продолжение импорта позволило бы к 2035 году обеспечить мощности для ежегодного выпуска ИИ-чипов суммарной производительностью до 434 млн H100-эквивалентов. Прекращение импорта с 2027 года снизило бы этот потолок до 153 млн. Это не прогноз количества готовых ускорителей: расчёт предполагает устранение остальных производственных ограничений, а H100-эквиваленты служат единицей сравнения вычислительной мощности.
Авторы доклада — бывшие американские чиновники Николас Браун (Nicholas Brown) и Саиф Хан (Saif Khan) — призывают запретить дальнейшие поставки в Китай всех иммерсионных DUV-систем и ограничить обслуживание оборудования на передовых производствах. Предложение не распространяется на всю DUV-литографию: более старые «сухие» установки предлагается сохранить для зрелых техпроцессов. Новый запрет пока не принят, а уже накопленный парк оборудования продолжает обеспечивать Китаю возможности для развития производства чипов.