Китай собрался довести долю местного оборудования для выпуска чипов до 70 % уже в следующем году

Китайские производители чипов уже несколько лет лишены доступа к передовому зарубежному оборудованию, но власти страны способствуют развитию местной отрасли, заодно определяя целевые показатели по импортозамещению. Так, в сфере производства чипов по зрелым технологиям доля китайского оборудования должна уже по итогам следующего года вырасти до 70 %.

Обзор HONOR Pad X9b Max: универсальный большой планшет с антибликовым экраном

Выбираем лучшие игровые ноутбуки на российском рынке (вторая половина 2026 года)

Лучший процессор под DDR4 в 2026 году: AM4 против LGA 1700

Групповое тестирование 46 видеокарт в The Witcher 3: Wild Hunt — Remastered

Компьютер месяца, спецвыпуск: выбираем мини-ПК для работы и развлечений в эпоху дефицита чипов памяти

Мастерская локальных ИИ: салат картофельный с Qwen3.8

Сравнительный тест камер флагманских смартфонов (2026): итоги

Об этом сообщает TrendForce со ссылкой на Newsswitch. Как уже отмечалось, сейчас все вводимые в строй в Китае предприятия по производству чипов должны как минимум на 50 % оснащаться оборудованием местного происхождения. От уровня локализации оборудования зависит и активность субсидирования подобных проектов китайским государством. В следующем году в сфере производства чипов по зрелым технологиям китайские компании должны зависеть от местного оборудования на 70 %, как рассчитывают китайские власти.

Одновременно перед китайскими производителями оборудования поставлена задача освоить выпуск 14-нм продукции с его помощью. На направлении оборудования для очистки кремниевых пластин в процессе травления в китайской литографической промышленности наблюдается высокая активность местных игроков рынка. Компании SMEE удалось приступить к верификации оборудования для экспозиции фотошаблонов с использованием источников лазерного излучения с длиной волны 28 нм на основе фторида аргона. В сфере травления кремниевых пластин Naura Technology приступила к массовому производству оборудования для выпуска 28-нм чипов, а компания AMEC надеется сертифицировать своё оборудование для выпуска 14-нм чипов на предприятиях китайской SMIC.

Ещё в конце прошлого года сообщалось, что в Китае был собран прототип передового по меркам страны литографического сканера класса EUV с использованием компонентов, полученных из старых сканеров нидерландской ASML. Выпускать образцы чипов с помощью такого оборудования китайские компании намереваются начать в 2028 году, но более реалистичным сроком видится конец десятилетия. Валидация китайского оборудования осуществляется быстрее, чем западного, порой удаётся уложиться в пределы одного года, что довольно быстро по меркам отрасли. Кроме того, китайская полупроводниковая отрасль активно замещает зарубежное программное обеспечение для проектирования чипов местным. Оно также является важной частью производственной инфраструктуры.