MWC 2018
2018
Computex
IFA 2018
В 2019 году компания Huawei Technologies первой приняла на себя удар американских санкций в технологической сфере, а потому принято считать, что за прошедшие годы она стала своего рода локомотивом импортозамещения в КНР. Усилия Huawei и связанных с ней китайских компаний сейчас направлены на создание литографического оборудования, позволяющего выпускать более совершенные чипы в Китае.
Источник изображения: ASML
Оборудование с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV) не является передовым по меркам западной полупроводниковой отрасли, но на некоторую часть ассортимента соответствующих сканеров ASML нидерландского производства уже наложены экспортные ограничения, что стимулирует китайских производителей задумываться об импортозамещении в данной сфере.
Издание Financial Times приводит пример китайской компании Yuliangsheng, которая базируется в Шанхае и была создана при участии стартапа SiCarrier, который, по данным FT, имеет тесные технические и деловые связи с Huawei. При этом Huawei отрицает аффилированность с SiCarrier. Данной шанхайской компании при поддержке партнёров удалось разработать литографическую систему класса DUV, образцы которой уже испытываются не только Huawei, но и контрактным производителем чипов SMIC. Поскольку прототип пока далёк от совершенства, он используется для изготовления менее сложных в производстве полупроводниковых компонентов, чем подразумевает будущий серийный выпуск.
Одним из препятствий к успешному созданию DUV-сканеров в Китае является отсутствие локальных оптических систем и источников лазерного излучения нужного качества. На этих направлениях Huawei и пытается обеспечить поддержку китайским разработчикам. Как поясняют аналитики Bernstein, в этом случае Huawei выступает в роли «менеджера проектов», который координирует усилия на общенациональном уровне. До конца текущего года Yuliangsheng должна выпустить 12 литографических сканеров класса DUV.
Как ранее сообщалось, китайская SMIC уже приступила к тестированию литографической системы этого поставщика, пригодной для изготовления 28-нм чипов, пытаясь приспособить её к изготовлению более совершенных 7-нм чипов при помощи множественных фотошаблонов. Изготавливаемые Yuliangsheng при поддержке крупной китайской компании SMEE прототипы DUV-оборудования имеют разный состав: некоторые полагаются на импортные компоненты, а другие пытаются использовать китайские альтернативы. Zeiss заявила, что продаёт свою литографическую оптику только ASML, однако отраслевые источники утверждают, что такие компоненты можно приобрести на вторичном рынке в Китае и именно они используются в составе DUV-прототипов китайской Yuliangsheng.
Инвестиционное подразделение Huawei Habo и другой фонд, поддерживаемый компанией, Shenzhen Yuanzhi Xinghuo, вкладывают средства в капитал китайской компании Fujian Zhiqi Photonics, которая разрабатывает высокоточные оптические компоненты, призванные заменить решения Zeiss. Этот производитель в 2022 году выделился из состава Castech, которая поддерживается Академией наук КНР и является поставщиком как ASML, так и Huawei.
В сфере производства источников лазерного излучения для литографических систем на мировом рынке доминируют японская Gigaphoton и европейская Cymer, которая входит в холдинг ASML. Для китайских разработчиков, по мнению экспертов, основной проблемой является создание источников лазерного излучения, которые стабильно бы работали при высоких мощностях. В этой области Huawei инвестирует в пекинскую RSLaser Opto-Electronics, которая считается поставщиком источников излучения для DUV-систем китайского производства. Согласно публичным данным, RSLaser уже поставляла источники света для DUV-оборудования предыдущих поколений производства SMEE
Китайские производители чипов хоть и закупают прототипы DUV-систем китайской разработки для экспериментов, в массовом производстве продолжают полагаться на оборудование ASML, которое они закупили впрок ещё до введения ограничений. Те же CXMT и YMTC, специализирующиеся на производстве микросхем памяти, располагают трёхлетним запасом такого оборудования. Санкции США только ускоряют разработку китайских альтернатив зарубежному оборудованию для производства чипов, по мнению экспертов Bernstein. Опять же, западные участники рынка литографического оборудования убеждены, что китайские аналоги отстают от зарубежных образцов как минимум на 15 лет.
Источник:
